GB-T 18682-2002 物理气相沉积TiN薄膜技术条件

ICS 25. 220. 20 A 29 GB 中华人民共和国国家标准 GB/T18682—2002 物理气相沉积TiN薄膜技术条件 Specifications of physical vapour deposition TiN films 2002-03-10发布 2002-08-01实施中华人民共和国发布国家质量监督检验检疫总局 GB/T18682—2002 目次前言范围 1 规范性引用文件 2 3术语和定义 4技术要求 5性能及试验方法附录A（规范性附录）镀膜前零件表面质量控制技术要求附录B（规范性附录）物理气相沉积技术用钛靶· 附录C（规范性附录）物理气相沉积TiN设备的真空技术要求附录D（规范性附录）膜厚度测量方法 12 附录E（规范性附录）物理气相沉积TiN薄膜防腐能力试验方法 15 附录F（规范性附录）物理气相沉积TiN薄膜摩擦学性能试验方法 17 GB/T18682—2002 前言本标准的附录A、附录B、附录 C、附录D、附录E、附录F为规范性附录。本标准由中国机械工业联合会提出。本标准由全国金属与非金属覆盖层标准化技术委员会归口。本标准负责起草单位：武汉材料保护研究所。本标准参加起草单位：钢铁研究总院、中科院力学研究所、中国航科集团公司五一一研究所、成都工本标准主要起草人：凌国伟、李健、倪瀚、黄济群、曲学基、纪晓春、秦襄培。

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本文档由思安于 2023-02-09 17:30:34上传分享